關于精密位移平臺在精度較低的場合使用時需注意事項

添加時間：2020-6-9 8:39:56 作者：浙江金科機械傳動有限公司

精密位移平臺技術中的位移檢測一般用到的檢測儀器：
（1）光學刻尺、計量光柵，分辨率可達10～2μm，磁柵、柵加電子細分，分辨率可達1μm～10nm。
（2）電感和電容測微儀，分辨率為10～0.1μm，也可用于精密定位技術中。
（3）激光干涉儀具有高的分辨率，可達1～10nm，但是設備較大，環境要求高，投資大，一般用于標定工作臺所能實現的定位精度。

精密位移平臺控制方式
（1）精密位移平臺開環控制，在定位精度較低的場合可以采用，例如在超薄病理試片切片機中采用的電熱控制，定位精度要求不高，但是可以獲得A量級的微進給。在強激光多維靶鏡調焦定位系統中，采用開環控制，由步進電機直接驅動調焦靶鏡，得到定位系統的調焦分辨力為1μm，定位精度為2.5μm，重復精度為1.1μm。
（2）精密位移平臺伺服反饋閉環控制，是精密定位領域最常用的控制方式，即是以伺服電機作為系統的執行元件，并在位置回路中接入誤差檢測裝置（光柵、磁柵、激光干涉儀等），進行誤差補充提高定位精度。
控制算法的研究也是精密位移平臺的一個研究熱點，通過優化算法，研究理想控制模型，從而通過閉環控制彌補驅動器或執行器的硬傷，以滿足高精度要求。